2月18日光刻胶板块午后加速走强，领涨两市各个板块，截至收盘，大涨6.65%。其中，容大感光、晶瑞股份、上海新阳等数只个股涨停；江化微、广信材料、捷捷微电等涨幅较大。

来源：东方财富

资料显示，集成电路光刻工艺环节包括涂胶、光刻、显影、刻蚀、去胶、清洗、烘干等，光刻胶是电子化工材料中技术壁垒最高的材料之一。目前，国产光刻机、涂胶显影设备处于所有集成电路工艺设备国产化最薄弱环节，而光刻胶国产化也处于起步阶段。

2018年全球光刻胶市场规模17亿美元，主要被JSR、 东京应化、富士电子材料、信越化学等日本企业垄断。国产从事光刻胶研发和生产的企业包括北京科华微电子、江苏瑞红电子（晶瑞股份）、南大光电、上海新阳(子公司上海芯刻微材料)等。

来源：中银证券

根据ASML、Canon、Nikon财报数据统计，2019年全球光刻机销量359台，同比下降5%；销售额估计为107亿美元，同比增长10%。按销售金额计算 ASML 的市占率89%，Canon 市占率3%，Nikon为8%。作为全球唯一能生产EUV光刻机的公司，荷兰ASML公司去年出售了26台EUV光刻机，主要用于台积电、三星的7nm及今年开始量产的5nm工艺，预计今年出货35台EUV光刻机。

而国产光刻机尚未取得零的突破，大陆光刻机市场被ASML、 Canon、Nikon垄断。不过随着燕东微、上海积塔、士兰微厦门项目等成熟制程及特色工艺产线的建产，光刻机仍然存在国产化机遇。

A股方面，高盟新材在互动平台表示，公司目前持有北京科华微电子3.67%股权，北京科华是国内光刻胶龙头企业，并已经为中芯国际供货。

容大感光三连板，12个交易日11阳，股价较年后首个交易日涨超46%。今日公司表示，目前光刻胶业务在公司主营业务中占比较小。

东兴证券研报称，国内企业已经逐步从低端PCB光刻胶发展至中端LCD和半导体光刻胶的量产，以北京科华、苏州瑞红（晶瑞股份）为代表的企业已实现了KrF光刻胶的研发突破，预计有望获得下游量产订单，以强力新材为代表的企业也已经实现了光刻胶上游原材料光引发剂和光酸等的国产化，打破海外垄断。