EUV光刻机需求强劲：ASML超应用材料成全球第一大半导体设备企业。

荷兰光刻机巨头ASML（阿斯麦）终于要超过AppliedMaterials（美国应用材料公司），成为全球最大的半导体设备企业。

其中，应用材料去年在半导体设备市场的份额是的19.2%，今年虽然微增到19.4%，但对手ASML却从去年的18%拔高到了21.6%。

今天我们就从光刻机国产替代产业链受益的相关品种，挖掘板块中还处于低位品种的相关投资机会。

半导体细分领域“光刻机”，行业保持高景气

光刻机被誉为半导体制造业皇冠上的明珠，掌握光刻机制造技术是国产芯片的关键。

光刻机龙头荷兰厂商三季度订单创历史新高，半导体行业对光刻机需求迎来高峰。

国家集成电路大基金二期募集资金2000亿，其中光刻机将会是投资的重点。

ASML稳居光刻机市场第一，是超高端领域独家垄断者。

目前全球光刻机领域，主要有ASML、尼康、佳能这三个主要生产商，ASML无论是产品、技术，还是市场占有率都是稳居第一；

而ASML并非一开始就是行业的领跑者，据东方财富的统计，1980年代ASML市场份额不达5%，尼康、GCA各占30%，到1980年代末期尼康占据近50%的市场份额；

而此后，ASML巧妙抓住了两次行业上的光刻机瓶颈的机遇，完成了对行业老大尼康公司的技术超车，攫取了全球近70%的光刻机市场份额。

ASML（阿斯麦）股价迭创新高

ASML（阿斯麦）一家就占据了全球近七成的市场，ASML的技术水平代表了世界顶尖的技术水平。

ASML仅用30年时间就在光刻机领域建立起极高的技术壁垒，据Bloomberg数据显示，在45nm以下高端光刻机设备市场ASML占据市场份额高达80%以上，在极紫外光(EUV)领域，ASML是独家生产者，实现了全球独家垄断。

国内光刻机产业链有望受益

在IC前道光刻设备方面，上海微电子装备股份有限公司代表了国内顶尖水平，其产品最高可实现90nm制程，ASML可达到5nm，上海微电子与国际先进水平仍有较大差距。

光刻工序涂胶显影设备上，国内技术领先的是沈阳芯源微电子设备股份有限公司（拟登陆科创板），在LED芯片制造及集成电路制造后道先进封装等环节已成功实现进口替代。

从ASML的成长历史来看，中国的光刻机企业有望较大成长空间，主要从以下3部分：

1）光刻机零件采取外包模式，专注于光刻机核心技术研发；

2）打造上下游利益链，形成稳定利益共同体；

3）建立开放研究网络，合理共享研发成果。

【投资策略】

综上逻辑梳理，在相关板块里面，我们通过研究分析，再结合技术形态，精选2家公司分析，供大家参考：

1、智光电气：2019年5月27日智光电气在互动平台上表示，参股公司粤芯半导体采购的荷兰ASML光刻机；

已于2019年3月中旬搬进粤芯半导体主厂房，目前在做量产前的最后调试准备。

技术面来看，目前临近三重底颈线位7.50附近，接下来关注量能持续性，若量能不足，回踩关注下方20日线支撑。

2、强力新材：2018年公司主营业务产品仍以光刻胶专用化学品为主，分为光刻胶用光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂等）和光刻胶树脂两大系列。

从事半导体KF光刻胶用光酸、光酸中间体以及聚合物用单体的生产及销售,光酸中间体已商业化量产,光酸及单体已向主要KrF光刻胶企业认证。

技术面来看，前期沿着上升趋势线攀升，目前站上年线和20日线，短期关注上方压力15到16元区域。接下来关注量能持续性，若量能不足，回踩关注下方20日线支撑。