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光刻机概念延续强势 新莱应材、南大光电双双涨超10%

来源：财联社 2026-06-05 10:17
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【光刻机概念延续强势 新莱应材、南大光电双双涨超10%】6月5日电，光刻机概念延续昨日强势，新莱应材、南大光电涨超10%，江化微、苏大维格、晶瑞电材、亚威股份、上海新阳跟涨。消息面上，美国得克萨斯大学奥斯汀分校研究团队开发出一种桌面级极紫外光刻装置，将原本需要数天完成的加工过程压缩至数分钟，进一步降低了半导体芯片制造门槛。
(来源：
财联社)

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