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光刻机

话题简介: EUV光刻机是生产最新、最强大芯片必要设备,目前由ASML独家进行研发、制造,ASML公司掌握80%的国际市场份额,市面上无法寻找到其他替代品

我国首台串列型高能氢离子注入机成功出束

【我国首台串列型高能氢离子注入机成功出束】财联社1月17日电,中核集团1月17日透露,由中核集团中国原子能科学研究院自主研制的我国首台串列型高能氢离子注入机(POWER-750H)近日成功出束,核心指标达到国际先进水平。这标志着我国已全面掌握串列型高能氢离子注入机的全链路研发技术,攻克了功率半导体制造链关键环节,为推动高端制造装备自主可控、保障产业链安全奠定坚实基础。离子注入机与光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备并称为芯片制造“四大核心装备”,是半导体制造不可或缺的“刚需”设备。此次高能氢离子注入机的

【我国首台串列型高能氢离子注入机成功出束】财联社1月17日电,中核集团1月17日透露,由中核集团中国原子能科学研究院自主研制的我国首台串列型高能氢离子注入机(POWER-750H)近日成功出束,核心指标达到国际先进水平。这标志着我国已全面掌握串列型高能氢离子注入机的全链路研发技术,攻克了功率半导体制造链关键环节,为推动高端制造装备自主可控、保障产业链安全奠定坚实基础。离子注入机与光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备并称为芯片制造“四大核心装备”,是半导体制造不可或缺的“刚需”设备。此次高能氢离子注入机的

01-17 12:45

浙江征求意见:晶圆制造领域加速突破3-7nm制程 发展离子注入机、涂胶显影、先进制程光刻机、刻蚀机等

【浙江征求意见:晶圆制造领域加速突破3-7nm制程 发展离子注入机、涂胶显影、先进制程光刻机、刻蚀机等】财联社1月12日电,浙江省经信厅牵头编制了《浙江省“十五五”新型工业化规划(征求意见稿)》,现就文稿内容及公平竞争性向社会公开征求意见。征求意见指出,芯片设计与制造领域,突破低功耗芯片设计,发展高端通用芯片、专用芯片、智能芯片等,开发第五代精简指令集架构芯片。晶圆制造领域,加速突破3-7nm制程。关键材料领域,发展化合物半导体材料、电子气体、高纯靶材、光刻胶等。关键设备领域,发展离子注入机、涂

【浙江征求意见:晶圆制造领域加速突破3-7nm制程 发展离子注入机、涂胶显影、先进制程光刻机、刻蚀机等】财联社1月12日电,浙江省经信厅牵头编制了《浙江省“十五五”新型工业化规划(征求意见稿)》,现就文稿内容及公平竞争性向社会公开征求意见。征求意见指出,芯片设计与制造领域,突破低功耗芯片设计,发展高端通用芯片、专用芯片、智能芯片等,开发第五代精简指令集架构芯片。晶圆制造领域,加速突破3-7nm制程。关键材料领域,发展化合物半导体材料、电子气体、高纯靶材、光刻胶等。关键设备领域,发展离子注入机、涂

01-12 14:07

芯上微装全资公司中标合肥8.6代AMOLED生产线

【芯上微装全资公司中标合肥8.6代AMOLED生产线】财联社12月26日电,企查查显示,近日,上海玻纳刻科技有限公司中标8.6代有源矩阵有机发光显示器件生产线项目,招标人为合肥国显科技有限公司。企查查信息显示,上海玻纳刻科技有限公司成立于2025年7月,经营范围包含:半导体器件专用设备制造;电子专用设备制造;智能基础制造装备制造;光学仪器制造等,由上海芯上微装科技股份有限公司全资持股。公开信息显示,芯上微装是一家专注于高端半导体装备研发、生产和服务的科技企业,其核心业务包括光刻机的设计与制造。

【芯上微装全资公司中标合肥8.6代AMOLED生产线】财联社12月26日电,企查查显示,近日,上海玻纳刻科技有限公司中标8.6代有源矩阵有机发光显示器件生产线项目,招标人为合肥国显科技有限公司。企查查信息显示,上海玻纳刻科技有限公司成立于2025年7月,经营范围包含:半导体器件专用设备制造;电子专用设备制造;智能基础制造装备制造;光学仪器制造等,由上海芯上微装科技股份有限公司全资持股。公开信息显示,芯上微装是一家专注于高端半导体装备研发、生产和服务的科技企业,其核心业务包括光刻机的设计与制造。

2025-12-26

上海微电子中标一台步进扫描式光刻机 金额约1.1亿元

【上海微电子中标一台步进扫描式光刻机 金额约1.1亿元】《科创板日报》25日讯,据中国政府采购网公示,上海微电子装备(集团)股份有限公司中标zycgr22011903采购步进扫描式光刻机项目,设备数量为一台,成交金额10999.985万元。

【上海微电子中标一台步进扫描式光刻机 金额约1.1亿元】《科创板日报》25日讯,据中国政府采购网公示,上海微电子装备(集团)股份有限公司中标zycgr22011903采购步进扫描式光刻机项目,设备数量为一台,成交金额10999.985万元。

2025-12-25

光刻机概念异动拉升 国风新材直线涨停

【光刻机概念异动拉升 国风新材直线涨停】财联社12月25日电,午后光刻机概念异动拉升,国风新材直线涨停,走出3天2板,华软科技、华融化学、高盟新材、盛剑科技、西陇科学等冲高。

【光刻机概念异动拉升 国风新材直线涨停】财联社12月25日电,午后光刻机概念异动拉升,国风新材直线涨停,走出3天2板,华软科技、华融化学、高盟新材、盛剑科技、西陇科学等冲高。

2025-12-25

阿斯麦EUV光刻机实现纳米孔全晶圆级制造

【阿斯麦EUV光刻机实现纳米孔全晶圆级制造】《科创板日报》22日讯,比利时微电子研究中心(IMEC)已成功利用阿斯麦最先进的极紫外光刻(EUV)设备,实现了纳米孔的全晶圆级制造,纳米孔的特性在生物医学领域极具研究价值。阿斯麦公司公关负责人将此称作其公司设备“一项出人意料的卓越生物医学应用”。鉴于纳米孔为分子传感技术开辟的广阔前景,这项突破或将成为该领域的重要进展。

【阿斯麦EUV光刻机实现纳米孔全晶圆级制造】《科创板日报》22日讯,比利时微电子研究中心(IMEC)已成功利用阿斯麦最先进的极紫外光刻(EUV)设备,实现了纳米孔的全晶圆级制造,纳米孔的特性在生物医学领域极具研究价值。阿斯麦公司公关负责人将此称作其公司设备“一项出人意料的卓越生物医学应用”。鉴于纳米孔为分子传感技术开辟的广阔前景,这项突破或将成为该领域的重要进展。

2025-12-22

光刻机概念异动拉升 凯美特气、奥普光电双双涨停

【光刻机概念异动拉升 凯美特气、奥普光电双双涨停】财联社12月18日电,早盘光刻机概念异动拉升,凯美特气、奥普光电涨停,新莱应材、蓝英装备、波长光电、京华激光等冲高。

【光刻机概念异动拉升 凯美特气、奥普光电双双涨停】财联社12月18日电,早盘光刻机概念异动拉升,凯美特气、奥普光电涨停,新莱应材、蓝英装备、波长光电、京华激光等冲高。

2025-12-18

光刻机概念逆势拉升 波长光电涨近10%

【光刻机概念逆势拉升 波长光电涨近10%】财联社12月16日电,午后光刻机概念逆势拉升,波长光电涨近10%,安达智能、沃格光电、茂莱光学、强力新材、凯美特气、兴福电子、高盟新材等跟涨。

【光刻机概念逆势拉升 波长光电涨近10%】财联社12月16日电,午后光刻机概念逆势拉升,波长光电涨近10%,安达智能、沃格光电、茂莱光学、强力新材、凯美特气、兴福电子、高盟新材等跟涨。

2025-12-16

阿斯麦CEO:High-NA EUV光刻改进方案已得到验证 预计2027至2028年大规模量产

【阿斯麦CEO:High-NA EUV光刻改进方案已得到验证 预计2027至2028年大规模量产】《科创板日报》15日讯,阿斯麦(ASML)首席执行官克里斯托夫·富凯表示,公司为High-NA EUV(高数值孔径极紫外光刻机)所设计的光刻改进方案已得到验证,成像效果极佳,分辨率非常出色。目前公司正与客户合作,以全面完善该光刻系统的成熟度。报道称,阿斯麦将与客户密切配合,确保High-NA EUV在明年内实现停机时间降至最低的稳定运行。富凯预计,High-NA EUV将在2027至2028年间实现

【阿斯麦CEO:High-NA EUV光刻改进方案已得到验证 预计2027至2028年大规模量产】《科创板日报》15日讯,阿斯麦(ASML)首席执行官克里斯托夫·富凯表示,公司为High-NA EUV(高数值孔径极紫外光刻机)所设计的光刻改进方案已得到验证,成像效果极佳,分辨率非常出色。目前公司正与客户合作,以全面完善该光刻系统的成熟度。报道称,阿斯麦将与客户密切配合,确保High-NA EUV在明年内实现停机时间降至最低的稳定运行。富凯预计,High-NA EUV将在2027至2028年间实现

2025-12-15

美政府将入股芯片制造工艺初创公司xLight

【美政府将入股芯片制造工艺初创公司xLight】财联社12月2日电,美国商务部在周一发布的一份新闻稿中表示,特朗普政府已同意向试图在美国开发更先进半导体制造技术的初创公司xLight注资最多1.5亿美元。作为回报,美国政府将获得xLight的股权,有可能成为xLight的最大股东。

【美政府将入股芯片制造工艺初创公司xLight】财联社12月2日电,美国商务部在周一发布的一份新闻稿中表示,特朗普政府已同意向试图在美国开发更先进半导体制造技术的初创公司xLight注资最多1.5亿美元。作为回报,美国政府将获得xLight的股权,有可能成为xLight的最大股东。

2025-12-02

光刻胶板块领涨科技股 国产龙头公司布局提速

①对于上涨,有分析人士表示,主要驱动因素一方面源于市场对半导体光刻胶本土化替代的强预期;另一方面则得益于国内光刻胶产业链企业在产品技术上的突破与落地; ② 容大感光表示,目前该公司KrF(248nm)光刻胶项目已完成光刻机等核心设备配置工作,目前正积极开展相关产品的研发工作。

①对于上涨,有分析人士表示,主要驱动因素一方面源于市场对半导体光刻胶本土化替代的强预期;另一方面则得益于国内光刻胶产业链企业在产品技术上的突破与落地; ② 容大感光表示,目前该公司KrF(248nm)光刻胶项目已完成光刻机等核心设备配置工作,目前正积极开展相关产品的研发工作。

2025-12-01

光刻胶概念午后异动 容大感光涨超10%

【光刻胶概念午后异动 容大感光涨超10%】财联社12月1日电,午后光刻胶概念异动拉升,容大感光涨超10%,此前国风新材涨停,南大光电、锦华新材、高盟新材、彤程新材、兴业股份等快速冲高。

【光刻胶概念午后异动 容大感光涨超10%】财联社12月1日电,午后光刻胶概念异动拉升,容大感光涨超10%,此前国风新材涨停,南大光电、锦华新材、高盟新材、彤程新材、兴业股份等快速冲高。

2025-12-01

万亿级券商或诞生 本周披露并购重组进展的A股名单一览

①中金公司拟换股吸收合并东兴证券和信达证券,三家公司股票集体停牌中; ②据财联社不完全统计,本周披露并购重组进展的A股上市公司共有29家(附表)。

①中金公司拟换股吸收合并东兴证券和信达证券,三家公司股票集体停牌中; ②据财联社不完全统计,本周披露并购重组进展的A股上市公司共有29家(附表)。

2025-11-22

洪镭光学:半导体掩模版光刻机与TGV玻璃基板光刻机完成订单交付

【洪镭光学:半导体掩模版光刻机与TGV玻璃基板光刻机完成订单交付】财联社11月19日电,近日,洪田股份旗下洪镭光学自主研发的应用于半导体掩模版领域的直写光刻机与TGV玻璃基板直写光刻机顺利下线,完成打包装运并发往订单需求客户。此次下线并交付的掩模版直写光刻机,是一台最小线宽线距解析能力为2.5μm,对位精度为±2μm的高精度的激光直写光刻设备,可满足客户L/S为3μm的掩模版产品的量产光刻需求。同时下线并交付客户的另一台直写光刻机,是应用于TGV玻璃基板领域,最小线宽线距解析能力为6μm,对位精

【洪镭光学:半导体掩模版光刻机与TGV玻璃基板光刻机完成订单交付】财联社11月19日电,近日,洪田股份旗下洪镭光学自主研发的应用于半导体掩模版领域的直写光刻机与TGV玻璃基板直写光刻机顺利下线,完成打包装运并发往订单需求客户。此次下线并交付的掩模版直写光刻机,是一台最小线宽线距解析能力为2.5μm,对位精度为±2μm的高精度的激光直写光刻设备,可满足客户L/S为3μm的掩模版产品的量产光刻需求。同时下线并交付客户的另一台直写光刻机,是应用于TGV玻璃基板领域,最小线宽线距解析能力为6μm,对位精

2025-11-19

光刻机、光刻胶概念异动拉升 同益股份20cm涨停

【光刻机、光刻胶概念异动拉升 同益股份20cm涨停】财联社11月18日电,光刻胶概念盘中异动拉升,同益股份直线拉升涨停,凯美特气触及涨停,张江高科、茂莱光学、新莱应材、波长光电、海立股份等跟涨。

【光刻机、光刻胶概念异动拉升 同益股份20cm涨停】财联社11月18日电,光刻胶概念盘中异动拉升,同益股份直线拉升涨停,凯美特气触及涨停,张江高科、茂莱光学、新莱应材、波长光电、海立股份等跟涨。

2025-11-18

阿斯麦在韩国斥资1.64亿美元建成维修培训基地

【阿斯麦在韩国斥资1.64亿美元建成维修培训基地】财联社11月12日电,据韩国京畿道政府声明,阿斯麦(ASML)斥资约2400亿韩元(合1.64亿美元)在首尔以南的华城新建基地,该园区包含设备再利用与维修中心、培训中心及办公楼。新园区预计每年可培训约2000名技术人才。

【阿斯麦在韩国斥资1.64亿美元建成维修培训基地】财联社11月12日电,据韩国京畿道政府声明,阿斯麦(ASML)斥资约2400亿韩元(合1.64亿美元)在首尔以南的华城新建基地,该园区包含设备再利用与维修中心、培训中心及办公楼。新园区预计每年可培训约2000名技术人才。

2025-11-12

ASML韩国华城园区竣工

【ASML韩国华城园区竣工】《科创板日报》12日讯,荷兰芯片设备制造商阿斯麦(ASML)韩国华城园区竣工。阿斯麦华城园区总面积1.6万平方米,设有深紫外(DUV)光刻、极紫外(EUV)光刻等设备零部件再制造中心和先进技术培训中心。据悉,阿斯麦曾发布到2025年投资2400亿韩元在华城市建造半导体设备集群的计划。

【ASML韩国华城园区竣工】《科创板日报》12日讯,荷兰芯片设备制造商阿斯麦(ASML)韩国华城园区竣工。阿斯麦华城园区总面积1.6万平方米,设有深紫外(DUV)光刻、极紫外(EUV)光刻等设备零部件再制造中心和先进技术培训中心。据悉,阿斯麦曾发布到2025年投资2400亿韩元在华城市建造半导体设备集群的计划。

2025-11-12

ASML中国区总裁沈波:中国市场将回归历史常规水平

【ASML中国区总裁沈波:中国市场将回归历史常规水平】《科创板日报》7日讯,ASML全球执行副总裁、中国区总裁沈波在接受《科创板日报》采访时表示,"2023年之前,中国市场在ASML全球销售额中的占比多年维持在15%~20%。预期明年回归历史常规水平,是一个正常化的表现。过去这两年中国市场份额占比较高,是因为不同地区客户需求的时间节点发生一些变化,使我们有能力交付了一些此前的积压订单,自然带来一波成长。这部分产能需要一些时间消化,这也会导致周期性地出现变化,是正常的情况。”(记者 黄心怡)

【ASML中国区总裁沈波:中国市场将回归历史常规水平】《科创板日报》7日讯,ASML全球执行副总裁、中国区总裁沈波在接受《科创板日报》采访时表示,"2023年之前,中国市场在ASML全球销售额中的占比多年维持在15%~20%。预期明年回归历史常规水平,是一个正常化的表现。过去这两年中国市场份额占比较高,是因为不同地区客户需求的时间节点发生一些变化,使我们有能力交付了一些此前的积压订单,自然带来一波成长。这部分产能需要一些时间消化,这也会导致周期性地出现变化,是正常的情况。”(记者 黄心怡)

2025-11-07

ASML中国区总裁沈波:中国区员工人数已超2000人

【ASML中国区总裁沈波:中国区员工人数已超2000人】《科创板日报》7日讯,ASML全球执行副总裁、中国区总裁沈波在接受《科创板日报》记者采访时表示,“目前,ASML中国区员工人数已经超过2000人,相较去年有约10%的增长。”谈及未来发展趋势,沈波认为,当AI终端应用扩展到消费、工业等广泛领域,将带来半导体产业的全面发展,但同时AI发展也带来算力和能耗两大挑战。(记者 黄心怡)

【ASML中国区总裁沈波:中国区员工人数已超2000人】《科创板日报》7日讯,ASML全球执行副总裁、中国区总裁沈波在接受《科创板日报》记者采访时表示,“目前,ASML中国区员工人数已经超过2000人,相较去年有约10%的增长。”谈及未来发展趋势,沈波认为,当AI终端应用扩展到消费、工业等广泛领域,将带来半导体产业的全面发展,但同时AI发展也带来算力和能耗两大挑战。(记者 黄心怡)

2025-11-07

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