荷兰光刻设备商ASML(ASML.US)表示，公司已找到提升关键晶片制造设备光源功率的方法，目标於本年代结束前把晶片产量提高最多50%。
ASML是全球唯一商用极紫外光刻(EUV)设备制造商，ASML NXE系列EUV设备执行副总裁Teun van Gogh表示，公司希望客户能以更低成本持续使用EUV。他预计，到本十年末，每台设备每小时可处理约330片晶圆，高於目前约220片。
ASML(ASML.US)据报研提升EUV光源功率 料晶片产量十年内增五成
AASTOCKS新闻 02-24 02:04
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