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光刻机中线福利包

政策基本面：

光刻机被誉为半导体制造的“皇冠明珠”，其技术水平直接决定了芯片的制程工艺和性能。目前，最先进的极紫外（EUV）光刻机由荷兰ASML公司垄断，用于7纳米及以下先进制程的生产。ASML，Nikon和佳能长期占据主要市场，ASML龙头地位稳固，光刻机国产化需求迫切.

据今日多家行业媒体援引知情人士近日消息，中芯国际（SMIC）已开始对首款国产深紫外（DUV）光刻机进行评估和测试。

据悉，中芯国际正在测试的深紫外线（DUV）光刻机由上海初创公司宇量昇生产，采用浸没式技术，类似于ASML所采用的技术。这台国产的28纳米（nm）DUV光刻机，可利用“多重曝光技术”生产7纳米芯片，即在没有EUV光刻机的情况下，通过多次光刻实现更精细线路图案的折中方案。

光刻机核心部件设备：

光学光刻机主要部件包括光源、照明、物镜、工件台、调焦调平、对准，真空环境等，EUV光刻机特征显著，体现在材料选择、多层反射膜结构、反射式投影系统、大功率光源以及磁悬浮工件台等方面。对于光刻机核心部件，加工流程复杂、设备种类较多，是产业重要壁垒之一。

技术面：

光刻机板块指数日K线显示，大道七线目前均为多头排列，股价依托大道一二号线重心逐步上移，上升趋势中每次回踩大道一号线就企稳重启反弹，上升趋势保持完好！！

光刻机核心概念公司：

光学镜头：

波长光电  茂莱光学  福光股份

光学元件：

茂莱光学  炬光科技  晶方科技  腾景科技

光源：

福晶科技  科益虹源(未上市)

光掩膜版：

华润微  清溢光电  路维光电

结构零部件：

海立股份  新莱应材  富创精密  电科数字

光刻胶：

南大光电  彤程新材  上海新阳  高盟新材