收入保持高增，研发加码补齐国产高端设备短板，维持“买入”评级

公司全年实现收入90.65 亿元，yoy+44.73%，其中刻蚀设备约72.77 亿元，yoy+54.72%，为收入增长的主要因素；实现归母净利润16.16 亿元，yoy-9.53%；实现毛利率41.1%，同比下降2.7pct。单季度来看：公司2024Q4 实现35.58 亿元，qoq+72.76%；实现归母净利润7.03 亿元，qoq+77.32%；实现毛利率39.26pct，qoq-4.47pct；截至2024Q4末公司合同负债为25.86 亿元，同比+235.2%。随着公司更高价值量设备及新布局设备类型逐步在下游通过验证，以及研发投入继续增长，我们上修公司2025/2026 年收入，下修2025 年归母净利润，预计公司2025-2027 年收入将分别达到122/160/200亿元（2025/2026 年前值110/141 亿元），归母净利润将分别达到22/32/45 亿元（2025/2026 年前值24/32 亿元），以2025 年4 月17 日收盘价计算，2025-2027 年PE分别为54/38/27 倍，维持“买入”评级。

新品研发进展顺利，高端化+平台化布局稳步推进

公司各条线产品研发进展顺利：（1）刻蚀设备：逻辑芯片已经在从65 至5nm 及更先进节点量产；存储芯片方面，用于超高深宽比掩膜刻蚀的ICP 刻蚀机目前在生产线上验证顺利，工艺能力可以满足国内最先进的存储芯片制造的需求。此外，用于超高深宽比介质刻蚀的CCP 刻蚀设备也已量产。（2）MOCVD 设备：用于制造深紫外光LED 的高温MOCVD 设备PRISMO HiT3 和用于硅基氮化镓功率器件的MOCVD设备PRISMO PD5 已在客户生产线上验证通过并获得重复订单；用于Mini-LED 生产的MOCVD 设备PRISMO UniMax 亦开始进行规模化生产。（3）薄膜沉积设备：

公司已经实现六种薄膜沉积设备的高效研发与交付，其中LPCVD 薄膜设备累计出货量已突破150 个反应台，其他多个关键薄膜沉积设备研发项目的研发进程均比较顺利，有望尽快进入客户验证阶段。我们认为：随公司设备高端化与平台化战略逐步起效，公司市场空间与盈利能力同步提升，有望在未来为业绩增长做出贡献。

风险提示：下游晶圆厂扩产幅度不及预期，新品研发及导入进度不及预期。