核心观点

营收持续高增，合同负债大幅增长昭示订单预期。公司发布24 年年报。公司2024年实现营收90.7 亿元，同比增长45%；实现归母净利润16.2 亿元，同比下降约10%；实现扣非归母净利润13.9 亿元，同比增长约17%。由于市场对中微开发多种新设备的需求急剧增长，2024 年公司显著加大研发力度，2024 年公司研发投入约24.5 亿元，同比增长约94%。2024 年公司毛利率下滑至41.1%，主要是由于今年客户的结构性变化，公司给予了部分的客户一定的销售折扣。24 年底公司合同负债余额约25.9 亿元，较期初的7.72 亿元大幅增长235%。

刻蚀设备持续高增长：2024 年公司CCP 和ICP 刻蚀设备的销售增长和在国内主要客户芯片生产线上市占率均大幅提升。公司 CCP 刻蚀设备已广泛应用于国内外一线客户的生产线，2024 年全年生产付运超过 1200 反应台，创历史新高。具有动态可调电极间距功能的双反应台 Primo SD-RIE 进入先进逻辑生产线验证关键工艺；用于高精度高选择比刻蚀工艺的单反应台产品 Primo HD-RIEe 和用于超高深宽比刻蚀工艺的 Primo UD-RIE 实现规模付运。公司ICP 刻蚀设备在涵盖逻辑和存储50 多个客户的生产线上量产，并继续验证更多 ICP 刻蚀工艺。2024 年，ICP 刻蚀设备在客户端的累计安装数达到 1025 个反应台，近四年年均增长大于 100%。

薄膜沉积设备贡献营收：公司近两年新开发的沉积各种导体薄膜的 LPCVD 设备和ALD 设备，目前已有多款顺利进入市场并获重复性订单。公司钨系列薄膜沉积产品在全部类别的应用场景中填充能力均达到国际先进水平，能够覆盖所有逻辑和存储相关应用。目前LPCVD 设备出货量已突破 150 多个反应台，2024 年得到约 4.76亿元批量订单，其他二十多种导体薄膜沉积设备也将陆续进入市场，能够覆盖全部类别的先进金属应用。公司EPI 设备已顺利进入客户验证阶段，以满足先进制程中锗硅外延生长工艺的需求。

盈利预测与投资建议

我们预测公司25-27 年归母净利润分别为24.3、33.6、44.6 亿元（原25-26 年预测为23.1、31.3 亿元，主要调整了主营业务收入），采用DCF 估值法，给予226.67元目标价，维持买入评级。

风险提示

研发费用增长影响盈利；晶圆厂扩产进度影响后续新增订单增长；业绩不及预期。