报告摘要：

事件：

2025 年4 月17 日，公司发布2024 年年度报告，实现营收90.65 亿元，同比+44.73%；归母净利润16.16 亿元，同比-9.53%；扣非归母净利润13.88 亿元，同比+16.51%。

Q4 单季度营收35.58 亿元，同比+60.11%，环比+72.76%；扣非归母净利润5.75 亿元，同比+25.53%，环比+74.01%。

点评：

营收稳定增长，短期利润承压不改广阔前景。刻蚀设备营收72.77 亿元，同比+54.72%；MOCVD 营收3.79 亿元，同比-18.03%，降幅收窄；LPCVD 设备首年销售就达1.56亿元。毛利率下滑4.77pcts 至41.06%；期间费用方面，销售/管理/财务/研发费用率分别为5.28%/5.31%/-0.96%/15.64%，同比-0.56/-0.17/+0.44/+2.60pcts，研发费用增长明显；值得关注的是，营收高增背景下，归母净利润下滑9.53%，归母净利率为17.82%，同降10.69pcts，主要系：1）公司为响应市场对新设备需求加大研发力度，研发投入同增94.31%至24.52 亿元，研发费用同增73.59%至14.18 亿元；2）2023 年存在拓荆科技处置收益（税后净收益4.06 亿元），2024 年无此项收益。未来随着公司新产品不断投入市场，有望实现业绩快速增长。

全面布局先进制程节点，多品类设备迭代加速。1）刻蚀设备：CCP 刻蚀设备全年付运超过1200 反应台，实现28nm 以上和部分28nm 以下制程的全面覆盖；具备实时动态电极间距调节功能的Primo SD-RIE 已进入28nm 及以下先进逻辑工艺的客户端验证。ICP 设备累计安装超1025 反应台，新推更高深宽比结构刻蚀的Nanova 系列，Primo TSV 系列在12 英寸3D 芯片的硅通孔刻蚀工艺上成功验证。2）MOCVD 设备：PRISMO A7/HiT3/UniMax 延续优势，Preciomo Udx、 PRISMO PD5 验证顺利，应用于红黄光LED 的MOCVD 设备开发顺利。3）薄膜沉积设备：已形成“钨系列+CVD/ALD 金属栅+EPI”三大产品族，共六款机型全面覆盖先进存储及逻辑制程关键薄膜环节。钨系列已在头部存储客户获重复订单，金属栅系列性能指标领先且完成多家先进逻辑客户验证，SiGe EPI 设备进入量产验证阶段。4）其他设备：子公司中微惠创气体净化设备已广泛应用，新成立超微公司开发电子束检测设备。

扩张产能，强化供应链韧性。1）产能建设：南昌14 万平、临港18 万平生产基地已投用，成都、广州新基地正在规划建设，公司制造交付能力持续增强。2）供应链安全：智能工厂项目和精益管理持续推进，建立需求、库存与供应链的三方动态协调机制。

首次覆盖，给予“增持”评级。看好公司持续推进“半导体+泛半导体+非半导体”三维发展战略，研发端、生产端内外兼修。预计公司2025-2027 年实现营收120.41/157.05/202.27 亿元，归母净利润分别为23.7/33.17/45.31 亿元，EPS 分别为3.81/5.33/7.28 元。

风险提示：新品拓展不及预期，下游需求不及预期