2024 年及1Q25 业绩符合我们预期

公司公布2024 年业绩及1Q25 业绩：2024 年收入90.65 亿元，同比增长44.73%，归母净利润16.17 亿元，同比略有下滑，1Q25 实现收入21.73亿元，同比增长35.4%，归母净利润3.13 亿元，同比增长25.67%，符合我们及市场预期。

发展趋势

刻蚀设备收入快速增长，验证进度逐渐加速：公司2024 年实现营业收入90.65 亿元，其中刻蚀设备72.77 亿元，同比增长54.72%，其中CCP 设备生产付运超过1200 反应台，付运量较 2023 年增长超100%，根据公司年报，用于先进存储器件超高深宽比工艺实现规模量产、用于金属掩膜大马士革刻蚀工艺进入28nm 以下逻辑产线验证，高精度高选择比刻蚀工艺获得先进存储客户批量订单；ICP 刻蚀设备在客户端的累计安装数达到 1025 个反应台，在先进逻辑、存储芯片工艺覆盖率大幅提升。

研发投入加大，新产品研发速度加快：2024 年公司研发投入24.52 亿元，同比增长94.31%，研发费用率达15.6%，公司显著加大研发力度，正在推进的项目涵盖六大类，坚持自主创新，2024 年公司LPCVD 新设备实现首台销售，全年销售额1.56 亿元。

多款薄膜沉积设备已通过客户验证，正积极导入市场：公司积极推出薄膜沉积系列设备，包含CVD 钨设备、HAR 钨设备和ALD 钨设备，已通过关键存储客户端现场验证，并获得客户重复订单，同时公司开发出应用于先进逻辑器件的金属栅系列产品，ALD 氮化钛，ALD 钛铝，ALD 氮化钽产品，已完成多个先进逻辑客户设备验证，工艺覆盖度逐步增加。

盈利预测与估值

我们维持公司2025/2026 年盈利预测不变，预计公司分别实现收入120.85/155.48 亿元，实现归母净利润27.87/37.06 亿元，当前股价对应公司2025/2026 年41.6/31.3x，我们采用远期P/E 估值法对公司进行估值，维持2027 年35xP/E 并折现，维持公司目标价241 元不变，对应公司2025/2026 年53.8/40.5xP/E，较当前股价仍有29.49%上行空间，维持跑赢行业评级。

风险

下游资本开支不及预期，零部件供应风险，新产品研发不及预期。