事项：

公司发布2024 年报&2025 年一季报：

1）2024 年：营业收入90.65 亿元，同比+44.73%；毛利率41.06%，同比-4.77pct；归母/扣非归母净利润16.16/13.88 亿元，同比-9.53%/+16.51%；

2）2025Q1：营业收入21.73 亿元，同比/环比+35.40%/-38.92%；毛利率41.54%，同比/环比-3.40pct/+2.28pct；归母/扣非归母净利润3.13/2.98 亿元。

评论：

刻蚀设备持续放量带动公司业绩高增长，薄膜设备贡献新增量。受益于先进制程及存储客户扩产，公司市场占有率&产品覆盖度不断提升，2024 年营业收入同比+44.73%至90.65 亿元，其中：刻蚀设备收入72.77 亿元，同比+54.72%；LPCVD 设备首年放量贡献1.56 亿元，成为新增长点；受LED 行业波动影响，MOCVD 设备收入3.79 亿元，同比-18.03%。2025 盈利能力方面，受短期客户结构变化影响公司毛利率有所波动；为加快拓展产品覆盖度，公司研发费用急剧增长导致短期净利润承压。订单方面，2025Q1 末公司合同负债环比增长4.81亿元至30.67 亿元，为公司2025 年业绩保持高增态势提供坚实基础。

半导体设备国产化进程加速，刻蚀&薄膜设备深度受益于高端制程扩产。半导体设备国产化进程加速，存储器件从2D 向3D 转换带动刻蚀&薄膜设备需求量大幅增长，以中微公司为代表的国产半导体设备厂商将持续受益。刻蚀设备方面，公司的等离子体刻蚀设备已应用在65 至5nm 及其他先进的集成电路加工制造生产线及先进封装生产线；薄膜设备方面，公司近两年新开发的LPCVD 和ALD 薄膜设备，目前已有多款新型设备产品进入市场并获得重复性订单，未来公司产品有望在高端存储和逻辑扩产进程中发挥更重要的作用。

高研发投入夯实平台化能力，新品突破打开远期空间。2024 年公司研发投入同比+94.3%至24.52 亿元，占营收约27.05%，高研发投入下公司平台化加速。

1）刻蚀设备：CCP 方面，公司用于高精度高选择比刻蚀工艺的单反应台产品和用于超高深宽比刻蚀工艺的产品实现规模付运，ICP 方面，公司在12 英寸的3D 芯片的硅通孔刻蚀工艺上得到成功验证；2）薄膜设备：公司钨系列薄膜设备已获得存储客户批量订单，并在多个逻辑客户处验证；3）量检测设备：

公司于2024 年新发起设立了超微公司，重点开发电子束量检测设备等，未来将通过各种方式扩大对多门类量检测设备的覆盖度，为长期增长提供有力保障。

投资建议：考虑到公司尚处于高研发投入阶段，我们将公司2025-2026 年归母净利润预测由24.33/32.10 亿元调整为22.11/30.57 亿元，新增2027 年归母净利润预测为40.31 亿元。结合公司历史估值及行业平均估值水平，给予公司2025 年12 倍PS，对应目标价为231.5 元，维持“强推”评级。

风险提示: 国际贸易形势变化；下游扩产不及预期；新品拓展不及预期；上游零部件供应短缺；行业竞争加剧。