事件描述

公司发布2024 年报，2024 年实现营业收入90.65 亿元同比增长44.73%，归母净利润16.16亿元同比下降9.53%，扣非归母净利润13.88 亿元同比增长16.51%。其中，2024Q4 营收35.58亿元同比增长60.11%，归母净利润7.03 亿元同比增长12.24%，扣非归母净利润5.75 亿元同比增长25.53%。

事件评论

刻蚀设备继续驱动增长。2024 年公司刻蚀设备营收72.77 亿元，同比增长54.72%，驱动整体业绩增长。刻蚀设备最近四年收入年均增长超过50%，且实现覆盖95%以上的刻蚀应用需求，技术能力达到5nm 及更先进工艺水平，市场占有率持续提升并不断收到领先客户批量订单。薄膜沉积设备全年收入约1.56 亿元实现首台销售，MOCVD 设备收入3.79 亿元，同比下降约18.03%。毛利率方面，由于2024 年客户结构变化，公司给予部分客户一定销售折扣，叠加会计准则调整，毛利率受到一定影响。净利率受以下因素影响，1）公司加大研发投入力度，2024 年研发费用14.18 亿元同比增长约73.59%；2）2023年公司出售了持有的部分拓荆科技股票，产生税后净收益约4.06 亿元，而2024 年无该项股权处置收益；3）公司实现常态化股权激励，2024 年股份支付费用超过4 亿元，对净利润影响较大，剔除股份支付费用影响后，扣非归母净利润为18.46 亿元，同比增长约23.6%。

研发投入继续加大，平台化持续推进。2024 年公司研发投入约24.52 亿元，同比增长约94.31%，占公司营业收入比例约为27.05%，同比2023 年增加6.90 个百分点。在此驱动下，公司的平台化持续推进。刻蚀设备方面，目前针对逻辑和存储芯片制造中最关键刻蚀工艺的设备已经在客户的产线上展开验证；MOCVD 设备方面，用于深紫外光LED、Mini-LED、硅基氮化镓功率器件、碳化硅功率器件外延、Micro-LED 等生产的多种新型设备均有不同的量产和研发进展。公司近两年新开发的LPCVD 薄膜设备和ALD 薄膜设备，目前已有多款新型设备产品进入市场并获得重复订单，其中LPCVD 薄膜设备累计出货量已突破150 个反应台，2024 年得到约4.76 亿元批量订单，其他二十多种导体薄膜沉积设备也将陆续进入市场，能够覆盖全部类别的先进金属应用，公司EPI 设备已顺利进入客户端量产验证阶段，以满足客户先进制程中锗硅外延生长工艺的量产需求。

产能扩张，支撑未来发展。公司位于南昌的约14 万平方米的生产和研发基地、在上海临港的约18 万平方米的生产和研发基地已相继投入使用；上海临港滴水湖畔约10 万平方米的总部大楼暨研发中心也在顺利建设；此外公司将在广州增城区及成都高新区建造新的生产和研发基地，确保今后生产并保障众多新产品研发和产能高速增长的需求。

预计2025-2026 年公司有望实现营收119、152 亿元，维持“买入”评级。

风险提示

1、限制政策进一步加剧的风险；

2、半导体制造端景气度不及预期的风险；

3、公司在新工艺和新产品验证进度不达预期的风险。