事件描述

公司发布2025H1 财报，2025H1 实现总营业收入49.61 亿元，同比增长43.88%，归母净利润7.06 亿元，同比增长36.62%，扣非归母净利润5.39 亿元，同比增长11.49%；其中2025Q2营收27.87 亿元，同比增长51.26%，环比增长28.25%，归母净利润3.93 亿元，同比增长46.82%，环比增长25.47%，扣非归母净利润2.40 亿元，同比增长9.16%，环比下滑19.39%。

事件评论

业绩加速增长，存货和合同负债继续提升。2025H1 公司营收、归母净利润均取得快速增长，其中2025Q2 的营收和归母净利润增速相较2025Q1 提升，呈加速增长趋势。2025H1刻蚀设备销售约37.81 亿元，同比增长约40.12%；LPCVD 设备销售约1.99 亿元，同比增长约608.19%；公司针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升，在先进逻辑器件和先进存储器件中多种关键刻蚀工艺实现大规模量产。公司存货和合同负债同环比提升，印证公司订单继续增长，未来业绩无忧。

研发投入继续加大，平台化持续推进。公司继续保持较高的研发投入，2025 年上半年公司研发投入总额14.92 亿元，同比增长53.70%，研发投入总额占营业收入比例为30.07%。

公司目前正在开展多个关键制程工艺的核心设备开发。1）CCP 刻蚀设备，公司的产品已广泛应用于国内外一线客户的生产线，截至2025H1，CCP 刻蚀设备累计装机量超过4500个反应台，较2024 年同期增长超过900 个；2）ICP 刻蚀设备，公司的产品在涵盖逻辑、DRAM、3D NAND、功率和电源管理、以及微电机系统等芯片和器件的50 多个客户的生产线上大规模量产，并继续验证更多ICP 刻蚀工艺，截至2025H1，ICP 刻蚀设备累计装机量超过1200 个反应台；3）MOCVD 设备，保持国际氮化镓基MOCVD 设备市场领先地位，Mini-LED 显示外延片生产设备领域处于国际领先，Micro-LED 应用的设备样机验证顺利并已取得客户重复订单；4）薄膜沉积设备，公司已开发出六款薄膜沉积产品并推向市场，包括CVD 钨设备、HAR 钨设备和ALD 钨设备、ALD 氮化钛、ALD 钛铝和ALD氮化钽，此外EPI 设备的研发验证也进展顺利。

积极扩张产能，支撑未来发展。公司位于南昌的约14 万平方米的生产和研发基地、在上海临港的约18 万平方米的生产和研发基地已投入使用，产能大幅提升；上海临港滴水湖畔约10 万平方米的总部大楼暨研发中心也在顺利建设；为确保今后十年有足够的厂房，并保障众多新产品研发和产能高速增长的需求，公司规划将在广州增城区及成都高新区建造新的生产和研发基地。

预计2025-2026 年公司有望实现营收119、154 亿元，实现归母净利润24.0、33.0 亿元，对应PE 分别为56、41 倍，维持“买入”评级。

风险提示

1、限制政策进一步加剧的风险；

2、半导体景气度不及预期的风险；

3、公司在新工艺和新产品验证进度不达预期的风险。