业绩简评

2025 年10 月29 日，公司发布2025 年第三季度财报，公司2025年1-9 月实现总营业收入80.63 亿元，同比增长46.40%;利润总额达到12.27 亿元，同比增长29.65%；实现归母净利润12.11 亿元，同比增长32.66%；销售毛利率为39.10%，同比下降3.12pcts。单Q3 看，公司实现总营业收入31.02 亿元，同比增长50.02%；利润总额5.09 亿元，同比增长22.73%；实现归母净利润5.05 亿元，同比增长27.50%；销售毛利率为37.89%，同比下降5.84pcts。

经营分析

高端产品新增付运量显著提升，超高深宽比刻蚀工艺实现大规模量产。公司用于关键刻蚀工艺的单反应台CCP 介质刻蚀产品保持高速增长，其60:1 超高深宽比介质刻蚀设备已成为国内标配设备，下一代90:1 设备也即将进入市场。在ICP 方面，适用于下一代逻辑和存储客户的刻蚀设备开发取得了良好进展。同时，公司开发的LPCVD、ALD 等多款薄膜设备及EPI 外延设备也已顺利进入市场，并在客户端进行量产验证。在泛半导体领域，公司正开发更多化合物半导体外延设备，并已陆续付运至客户端开展生产验证。

近期发布六款新产品，加速转型高端设备平台化公司。公司于2025年9 月推出了六款半导体设备新产品，覆盖了等离子体刻蚀、原子层沉积及外延等关键工艺。在刻蚀设备方面，此次发布的两款新品分别为极高深宽比刻蚀及金属刻蚀领域提供了高效的解决方案。在薄膜沉积设备方面，四款新品包括三款原子层沉积产品以及一款外延产品，其中12 英寸原子层沉积产品能够满足先进逻辑与先进存储器件在金属栅方面的应用需求，外延设备则可满足从成熟到先进节点的逻辑、存储和功率器件等多领域外延工艺需求。

这些新产品进一步拓展了公司的产品布局，为其向高端设备平台化公司的转型提供了有力支撑。

盈利预测、估值与评级

预计公司2025-27 年营收118.51/156.43/198.65 亿元，同比增长30.73%/32.00%/26.99%；归母净利润18.67/27.85/38.33 亿元，同比增长15.54%/49.19%/37.62%，对应EPS 为3.0/4.4/6.1 元，对应P/E 为100/67/48 倍，维持“买入”评级。

风险提示

技术开发进度不及预期；国产替代进程放缓；原材料价格波动；市场竞争加剧导致毛利率下降；政策支持不及预期