重点一：中微公司 CCP 及 ICP 刻蚀设备工艺已覆盖超过 95% 的刻蚀应用场景。

重点二：2025 年 LPCVD 与 ALD 薄膜沉积设备订单金额同比增长 59%。

重点三：重申“买入”评级，维持目标价 380 元，对应 65 倍 2026 年预期市盈率。

中微公司于 2026 年 3 月 28 日在上海召开全球供应商大会。公司目前持续加大在刻蚀、薄膜沉积及 MOCVD 等领域的投入，已有超过 7,800 个反应台在 170 多家客户实现量产。尽管持续较高的研发投入或对 2026 年利润率形成一定压力，但我们认为这将显著支撑公司中长期成长。同时，公司在 LPCVD 及其他设备领域的新增订单进展积极，亦显示其正逐步由单一设备厂商向平台型半导体设备供应商演进。

中微正在拓展核心刻蚀设备品类。从核心刻蚀设备看，中微公司在 CCP 领域已覆盖 100%的成熟逻辑应用、94% 的 3D NAND 应用及 95% 的 DRAM 应用；在 ICP 领域，公司已覆盖94% 的成熟逻辑应用、100% 的先进逻辑应用、100% 的 3D NAND 应用以及 98% 的 DRAM应用。综合 CCP 与 ICP 两大技术路线来看，公司目前已覆盖不同器件类型约 300 项刻蚀应用中的 95% 以上，显示其刻蚀平台的工艺覆盖度已处于较高水平，产品矩阵持续完善。

我们预计公司 2026 年仍将维持较高强度的研发投入。根据公司 2025 年业绩披露，在薄膜沉积业务板块中，LPCVD 与 ALD 产品收入于 2025 年达到 5.06 亿元人民币，同比增长224.2%。公司表示，部分应用于存储及逻辑领域的 LPCVD 设备已于 2025 年上半年实现稳定量产，且未来 5 至 6 年内还计划进一步开发约 40 款薄膜设备型号。2025 年公司研发投入达 37.4 亿元人民币，同比增长 52.65%，占营业收入比重为 30.23%。考虑到公司仍在持续推进产品开发、缩小与海外半导体设备厂商之间的技术差距，我们判断其 2026 年研发投入仍可能维持在较高水平。

我们重申对中微公司的“买入”评级，维持目标价 380 元人民币。我们的目标价基于 65 倍2026 年预期市盈率，系由此前估值基准顺延所得，明显高于行业平均约 42 倍的估值水平，反映我们对公司 2026 至 2027 年收入及利润增长潜力更为乐观。我们认为，市场尚未充分计入公司在刻蚀工艺高覆盖率、薄膜设备放量以及平台化拓展方面的中长期成长空间。风险：下游需求弱于预期、美国进一步收紧对中国半导体产业的限制，以及半导体设备行业竞争加剧。