投资要点

业绩高速增长，充分受益于下游扩产： 2026H1 公司实现营收66.91 亿元，同比+34.9%；归母净利润为28.25 亿元，同比+300.2%，其中含出售拓荆科技股票产生的投资收益约9.53 亿元；扣非归母净利润为11.23 亿元，同比+108.4%，盈利能力持续向好。2026Q2 单季公司实现营收37.76 亿元，同比+35.5%，环比+29.5%；归母净利润为18.95 亿元，同比+382.3%，环比+103.6%；Q2 实现扣非归母净利润为6.45 亿元，同比+168.2%，环比+35.1%。

毛利率保持稳定，研发投入保持高强度： 2026H1 公司综合毛利率为39.7%，同比-0.1pct；销售净利率为41.8%，同比+28.0pct，主要系大额非经常性收入（出售拓荆科技股票）所致。期间费用率为27.6%，同比-2.1pct；2026H1公司研发投入为20.41 亿元，同比+36.9%，研发投入占营业收入比例为30.51%；其中研发费用为13.10 亿元，同比+17.3%，仍保持高强度研发投入。2026Q2 单季毛利率为39.6%，同比+1.1pct，环比-0.3pct；销售净利率为49.8%，同比+36.2pct，环比+18.2pct。

平台化布局持续推进，覆盖刻蚀、薄膜、量检测等核心工艺：目前公司产品已覆盖超30%前道设备，未来五年内预期通过自主研发+外延并购，覆盖60%以上集成电路高端设备市场与70%以上的先进封装设备市场。（1）刻蚀设备：①CCP 设备：下一代超高深宽比介质刻蚀设备即将进入市场；超高深宽比刻蚀设备Alpha 机已完成实验室马拉松测试，Beta 机在客户端验证顺利。②ICP 设备：低温高深宽比ICP 刻蚀设备已在客户下一代产品产线上稳定量产；高选择比气相刻蚀设备已在实验室开展多项工艺验证。（2）薄膜沉积设备：钨系列CVD/HAR/ALD 设备已通过关键存储和逻辑客户端现场验证并获得重复量产订单；ALD、PVD 等多款设备交付多个先进逻辑、先进存储客户，现场验证顺利推进。（3）量检测设备：子公司超微公司重点开发电子束量检测设备，有望加速进入客户端验证。（4）湿法设备：完成收购中微众硅，切入CMP 湿法设备，已导入多家头部客户。（5）先进封装设备：2.5D、SoIC WoW 及高深宽比深槽电容刻蚀设备持续获得重复订单，第三代TSV 刻蚀机已获多家客户订单，即将发往客户端验证；TSV CuBS PVD集成设备开发顺利，并已启动UBM PVD 集成设备研发，进一步完善先进封装平台化产品布局。

盈利预测与投资评级：考虑到存储上市扩产、国产算力需求旺盛、叠加设备国产化率提升，行业有望维持高景气，我们上调公司2026/2027/2028 年归母净利润为40.4（原值27.3）/49.0（原值34.6）/58.8（原值42.6）亿元，当前市值对应2026-2028 年动态PE 分别为86/71/59X，维持“买入”评级。

风险提示：下游扩产节奏不及预期，新品研发&产业化不及预期等。