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清溢光电:公司已成功实现150nm工艺节点掩膜版的小规模量产

财联社 15:34

清溢光电:公司已成功实现150nm工艺节点掩膜版的小规模量产】财联社12月5日电,清溢光电(688138.SH)在业绩说明会上表示,公司佛山生产基地总投资35亿元。半导体芯片掩膜版技术方面,公司已成功实现150nm工艺节点掩膜版的小规模量产,正在推进130nm-65nm的PSM和OPC工艺的掩膜版开发和28nm半导体芯片所需的掩膜版工艺开发规划。公司半导体掩膜版业务的代表性客户包括比亚迪半导体、芯联集成等,根据客户保密协议,部分客户的信息不便透露。目前,半导体掩膜版的国产化率在10%左右,国产替代空间巨大。

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