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半导体设备行业-RDL重分布层为致胜关键 关注LDI直写、电镀等板级设备:扇出型面板级封装 发展潜力大

国泰海通证券股份有限公司 04-23 00:00

本报告导读:

面板级封装具备更大的灵活性、可拓展性和成本效益,有望2027 年前后在AI、5G和高性能计算中先进节点封装领域实现更广泛的应用。

投资要点:

投资建议。我 们预计2027 年前后FOPLP 技术将在先进节点上得到更广泛应用,包括设备/材料的兼容性、设备的标准化、翘曲的控制、重分布层的一致性、电镀和刻蚀工艺的均匀性等各方面问题将伴随台积电、群创、日月光、英特尔、华为等大公司以及设备/材料等供应链公司的共同努力,有望获得较快发展。我们给予半导体设备行业“增持”评级,推荐标的公司包括芯碁微装、长川科技等。

AI、5G 和高性能运算中先进节点封装的发展。FOPLP(扇出面板级封装)技术是FOWLP 技术的延伸,在更大的方形载板上进行Fan-Out 制程,能够将多个芯片、无源元件和互连集成在一个封装内,提供更大的灵活性、可扩展性和成本效益。载板由圆形晶圆转向方形材料,包括玻璃、有机基板、不锈钢板等,面积从510mm*515mm、600mm*600mm 不断发展,目前已达到最大面积700mm*700mm,相当于12 寸晶圆的8 倍。FOPLP 技术最先应用于电源管理IC、射频IC 等小芯片的先芯片制程,目前正朝着应用于AI 芯片的后芯片制程发展,FOPLP 技术正与2.5D 中介层技术在高级节点封装领域展开竞争。

FOPLP 技术领域需要产业链协同努力、解决技术难点问题。虽然FOPLP 技术在节省成本、可扩展性、简化集成等领域优势明显,但设备的初始成本、有限的供应链、由于大尺寸格式而导致的加工产量问题、材料的兼容性、产量提高和缺乏标准化方面的挑战等,仍需要不断去攻克才能得到更广泛的应用。1、更大的面板需要精确的翘曲控制和材料一致性,以确保高密度设计中的可靠互连;2、重分布层(RDL)、新电介质材料的集成,比如高分辨率铜互连需要新的干膜光刻胶化学技术等;3、电镀和刻蚀工艺的均匀性要保持一致等。

国内设备公司积极布局面板级封装领域。我们已看到不少国内设备公司已推出板级封装领域的相关设备:1、芯碁微装的P LP 3000 板级封装直写光刻机,无需掩膜版,可直接将版图信息转移到涂有光刻胶的衬底上,可支持覆铜板、复合材料、玻璃基板,在RDL、UBM和TSV 等制程工艺中优势明显。2、盛美上海推出用于扇出型面板级封装的Ultra ECP ap-p 面板级电镀设备,可用于RDL 的Cu 电镀、以及Bump、Cu/Ni/SnAg 的电路。3、长川科技也已推出针对面板级封装相关的设备。

风险提示:面板级封装技术发展进展缓慢、设备和材料供应链配合研发进度不及预期等。

免责声明:以上内容仅供您参考和学习使用,任何投资建议均不作为您的投资依据;您需自主做出决策,自行承担风险和损失。九方智投提醒您,市场有风险,投资需谨慎。

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