中证报中证网讯近日，屹唐股份凭借在技术创新方面的积极探索与持续发展，在2026年湾区半导体产业生态博览会(湾芯展)中荣获“技术创新企业奖”，彰显了行业对公司技术研发与创新能力的认可。

作为专注于半导体关键设备与系统解决方案的企业，屹唐股份推出等离子去胶设备、等离子刻蚀设备、晶圆表面处理设备及快速热退火设备，相关产品已在全球多家逻辑、存储类芯片厂商实现广泛应用。

RENA-E系列等离子体刻蚀设备以独特的电感耦合等离子技术为核心，实现快速介质刻蚀，兼具高刻蚀速率与低器件等离子体损伤。其灵活控制离子能量的能力，有效提升了刻蚀效率并保护器件质量。同时，利用电感耦合特性，解决了传统电容耦合刻蚀中的副产物沉积问题，延长了腔室部件寿命，显著提升平均维护间隔时间，降低了运维成本。

用于晶圆表面原子处理的Nebulex选择性刻蚀设备，基于业界领先的远程等离子系统，在宽广的工艺范围上提供了独特的气体选择与离子辅助控制方式，在去除介电和导体薄膜材料方面表现出优异的选择性，针对特定结构提供优秀的均匀度控制。Nebulex系列是选择性去除工艺在Logic逻辑芯片、Memory存储芯片、Foundry晶圆制造、Power IC功率半导体制造的理想解决方案。

屹唐股份表示，未来将继续立足半导体设备领域，以创新驱动发展，以专业服务客户，为半导体产业发展注入更多动力。