6月9日有投资者向拓荆科技(688072)提问：请问，公司主营产品半导体薄膜沉积设备，国内、国外主要竞争对手是哪些，公司处在那个阶梯。

7月16日公司回答表示：感谢您对公司的关注。公司依托十余年技术深耕，已形成覆盖 PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVD 等多条技术路线的薄膜沉积设备产品矩阵，同时布局先进键合设备及配套量检测设备。公司产品已进入国内约100条集成电路制造产线，实现了规模化导入与量产应用，且性能指标达到国际同类设备先进水平，是国内半导体薄膜沉积设备及三维集成设备领域具备量产能力与核心竞争力的领军企业。

目前公司的主要竞争对手仍为海外设备厂商，薄膜沉积设备行业主要由应用材料（AMAT）、泛林半导体（Lam Research）、东京电子（TEL）等国际巨头主导，据 Gartner 统计，上述三家厂商合计占据全球 CVD 市场约 70% 的份额，处于行业第一梯队。在三维集成领域，EV Group、TEL等公司高度垄断全球绝大部分市场份额。