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聚光科技:设备可应用于多种高纯材料痕量杂质检测

九方智讯 07-24 15:45

6月7日有投资者向聚光科技(300203)提问:公司子公司谱育科技的EXPEC 7350系列(含7350S Plus)三重四极杆ICP-MS/MS设备,已通过SEMI S2认证并用于半导体高纯材料检测,该设备是否可直接应用于玻璃基制造全流程的痕量杂质检测(包括玻璃基板原材料纯度、电镀液金属杂质、玻璃基成品表面污染等关键环节)?

7月24日公司回答表示:感谢您对公司的关注,EXPEC 7350 三重四极杆电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS/MS)采用全新的先进工艺设计和突破性的技术,可应用于高纯试剂,高纯金属,Si、CaAs晶片的超痕量杂质,光刻胶和清洗剂等高基体不稳定样品分析,分析能力成功突破了传统ICP-MS无法克服的干扰问题。ICP-MS/MS已成功构建覆盖高纯湿化学品、光刻胶、硅烷、晶圆体/表金属残留以及高纯石英材料等关键材料的痕量杂质分析检测整体解决方案体系。谢谢!

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