【科顺股份：公司参与锦屏地下实验室（深2400米）建设】11月7日电，科顺股份在互动平台表示，公司参与锦屏地下实验室（深2400米）建设，展现了在极端环境下的技术领先优势。公司创新性地提出了“抑氡低本底防排一体化解决方案”，这是一套系统性的专有技术体系，能同步解决高压排水、永久防水、严密阻氡和低本底保障等核心难题。方案核心在于高性能定制化产品，如特殊定制的带背衬高密度聚乙烯（HDPE）排水板。该产品具备卓越的耐久抗压性、一体化设计及极致气密性，通过双缝热楔焊接工艺，有效阻挡氡气侵蚀，其性能远超国标并满足低本底需求。项目还产出了1项发明专利、6项实用新型专利等成果，体现了公司的研发实力，公司将继续以技术创新助力国家重大工程建设。