1月29日有投资者向国林科技(300786)提问：公司的半导体臭氧设备在存储芯片制造上的技术优势有哪些？能够适配目前最先进hbm、3d nand、dram存储芯片的生产吗？

2月2日公司回答表示：尊敬的投资者，您好。公司的半导体专用臭氧系统设备能够产生高浓度、超纯净的臭氧，臭氧在电子工业领域被广泛用于形成CVD及ALD薄膜、氧化物生长等工艺环节。在3D NAND存储芯片结构中，臭氧因其高氧化性、清洁效率和环保特性，能够满足半导体制造对精度、缺陷控制和材料兼容性的严苛要求，从而实现纳米级均匀氧化层的形成。感谢您的关注。