10月3日有投资者向国林科技(300786)提问：请问公司产生的半导体级臭氧是SiC栅氧化过程中的氧化气源吗？
10月12日公司回答表示：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程，子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。详细产品技术信息请查阅公司官方网站或公司定期报告进行了解。感谢您的关注。
国林科技：臭氧用于多种半导体工艺，产品满足需求
九方智讯 10-12 11:30
国林科技 --%
10月3日有投资者向国林科技(300786)提问：请问公司产生的半导体级臭氧是SiC栅氧化过程中的氧化气源吗？
10月12日公司回答表示：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程，子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。详细产品技术信息请查阅公司官方网站或公司定期报告进行了解。感谢您的关注。
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