4月16日有投资者向国林科技(300786)提问：公司半导体臭氧系统是否主要应用于先进nand、dram存储芯片及逻辑芯片生产制造的光刻、薄膜沉积等环节？

4月20日公司回答表示：尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程，子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。子公司国林半导体现有产品包括：半导体级超纯臭氧气体发生器、臭氧气体输送系统、半导体级高浓度臭氧水系统、DI-NH3氨水输送系统、二氧化碳水发生器、臭氧水杀菌系统、臭氧气体尾气分解器、臭氧水分解器、臭氧气体浓度检测仪、臭氧水溶浓度检测仪等产品；详细产品介绍您可以关注公司官网信息。感谢您的关注。