人民财讯10月7日电，微导纳米成功研发出国内首台量产型High-k ALD设备。该设备不仅顺利应用于集成电路制造前道生产线，更一举攻克国内集成电路突破关键制程节点的核心难题——高介电常数(High-k)栅氧层薄膜工艺，为推动国内半导体产业自主化进程作出了重要贡献。CVD设备在硬掩膜等关键工艺领域取得突破性进展，公司成为国内首批成功开发硬掩膜化学气相沉积(CVD)设备，并顺利进入产业链核心厂商量产线的国产企业。

公司核心技术已实现多领域覆盖，可精准适配逻辑芯片、存储芯片、先进封装、化合物半导体及新型显示中的薄膜沉积技术等关键应用场景。公司持续聚焦半导体先进制程薄膜工艺解决方案，服务并引领半导体新架构、新器件发展，打通国内先进半导体下一代技术迭代的需求，引领行业创新发展。